Foto direncin stabilitesi, bu süreçte vazgeçilemeyen bir unsurudur. Temizleme sonrasında kalan en küçük nem parçacıkları bile hata oluşmasına neden olabilir. Ayrıca, yumuşak pişirme ve sert pişirme işlemleri için gerekli olan termal koşullar da oldukça hassastır. Geleneksel kurutma yöntemleriyle ise sıcaklık profili bozulur ve parçacık sayısı ile hat genişliği kontrolü zorlaşır.
İşte burada önemli olan teknik detaylar:
Güneş pili waferlerini kurutmak için kullandığımız lamba, bir saniyeden kısa sürede tepki veren kısa dalga infrakırmızı ışınlar kullanarak wafer üzerinde ±0,1°C’lik bir sıcaklık düzgünlüğü sağlar. Bu hassasiyet sayesinde foto direnç işlemleri, yumuşak pişirme ve sert pişirme aşamalarında tekrarlanabilir hale gelir. Bu lamba, Cleanroom Class 1–100 standartlarına uygundur; 5.000 saatten fazla çalıştığında bile sıcaklık değişimi %5’in altındadır ve hiçbir parçacık oluşmaz. Entegre kuvars koruma sistemi ve kapalı termal yol sayesinde kirlilik engellenir ve sıcaklık profili bozulmaz.
Bu özelliklerin litografide ve aşındırma işlemlerinde ne kadar önemli olduğunu açıklayalım: Eğer termal kontrol sağlam değilse, waferlerin kurutulması zaman alıcı bir işlem haline gelir. Bu lamba sayesinde kurutma süresi kısalarak termal koşullar korunur ve böylece kritik boyut kontrollerinden ödün verilmeden üretim hızlanır. Tekrarlanabilir sıcaklık profili sayesinde daha az yeniden işleme gerekiyor, atık miktarı azalıyor ve işlem süreleri planlanabilir hale geliyor. Ayrıca lamba yalnızca hedeflenen alanı ısıttığı için enerji tüketimi de azalıyor.
Birkaç pratik detay: Lambanın özel bir 24 VDC güç kaynağına ihtiyacı vardır ve spin-dry istasyonunun hemen yanında yer almalıdır ki hizalaması korunsun. Standart 150 mm ve 200 mm boyutundaki taşıyıcılarla çalışır; 300 mm boyutundaki taşıyıcılar için ise küçük ayarlamalar yeterlidir. Kesin işlem parametrelerini belirlemek için kısa bir termal kalifikasyon testi yapılmalıdır.