Fast trocknender Wafer nach Spülvorgang mit Lampe

Wed, 17 Jun 2026 16:36:52 +0800

In der Produktion ist das Spülen noch nicht das Ende des Prozesses. Es handelt sich dabei vielmehr um die letzte Station, bevor Kontaminationen eindringen können. Wasserflecken, langsame Trocknungszeiten sowie Hotspots sind nicht nur unschön – sie führen auch zu geringerer Ausbeute und unplanmäßigen Stillständen. Nach dem Spülen muss die Wafer schnell, sauber und zuverlässig trocknen – ohne dass dabei Partikel entstehen oder der Photoresist beeinträchtigt wird.

Was technisch wichtig ist:
Wir haben diese Lampe nach einem bestimmten Prinzip konstruiert: Energie soll schnell bereitgestellt werden – und dabei unter Kontrolle bleiben. Kurzwellige Infrarotelemente sorgen für eine hohe Leistungsdichte, wodurch das Wasser schnell verdunstet. Gleichzeitig sorgt die Geometrie des Reflektors sowie die Luftstromführung dafür, dass die Temperatur gleichmäßig bleibt. So bleibt die Temperatur auf dem Wafer bei ±0,1°C – somit erhält jeder Chip die gleiche Wärmebelastung.

Fast on Quality IR Heating Lamps

Fast trocknender Wafer nach Spülvorgang mit Lampe