Wafer Trocknungslampe nach der Reinigung

Wed, 03 Jun 2026 10:22:37 +0800

Reinigen Sie die Wafer, und die Oberfläche ist makellos – aber auch instabil. Jegliche Restfeuchtigkeit führt unweigerlich zu Defekten, die sich durch Lithografie und Ätzen ziehen und später als Ausbeuteverluste auftreten.
Wir setzen eine Wafer-Trocknungslampe ein, die diese Feuchtigkeit mit schneller, kontrollierter Energie behandelt. Sie treibt das Wasser ab, ohne die Oberfläche zu beeinträchtigen, sodass der Wafer bereit ist für Photoresist-Spin, Softbake und Hardbake – mit einem thermischen Verhalten, auf das Sie sich verlassen können.

Was unter der Haube zählt
Die Lampe nutzt kurzwellige Energie, um lokal und schnell zu erhitzen, sodass Chuck und Umgebung keine zusätzliche thermische Belastung erfahren. Über den Wafer liegt die Gleichmäßigkeit bei ±0,1°C, was Ihre Overlay- und kritischen Dimensionsbudgets schützt.
Sie eignet sich für Reinräume von Klasse 1 bis Klasse 100 und gibt im stabilen Betrieb keine Partikel ab. Das System hält die Photoresist-Backtemperaturen präzise, sodass Softbake- und Hardbake-Profile reproduzierbar bleiben. Die Ausgangsleistung bleibt über 5.000+ Stunden stabil, mit Intensitätsdrift unter 5 %.

Reinigung on Quality IR Heating Lamps

Wafer Trocknungslampe nach der Reinigung