Lampe de séchage de wafer après nettoyage

Wed, 03 Jun 2026 10:22:37 +0800

Nettoyez la plaquette, et la surface est impeccable — mais elle est aussi instable. Toute humidité résiduelle est un aller simple vers des défauts qui traversent la lithographie et la gravure, puis se traduisent par des pertes de rendement.
Nous utilisons une lampe de séchage pour plaquette qui cible cette humidité avec une énergie rapide et contrôlée. Elle évacue l’eau sans altérer la surface, ce qui prépare la plaquette pour le dépôt de photoresist, la cuisson douce et la cuisson dure — avec un comportement thermique fiable.
Ce qui compte dans le détail
La lampe repose sur une énergie à ondes courtes pour chauffer localement et rapidement, sans imposer de charge thermique supplémentaire au plateau et à l’environnement. Sur toute la plaquette, l’uniformité est maintenue à ±0,1°C, ce qui préserve vos budgets d’alignement et de dimensions critiques.
Elle s’adapte aux salles blanches de classe 1 à classe 100 et ne génère pas de particules une fois à l’état stable. Le système maintient des températures de cuisson du photoresist précises, garantissant la répétabilité des profils de cuisson douce et dure. De plus, la puissance reste stable pendant plus de 5 000 heures, avec une dérive d’intensité inférieure à 5 %.
Pourquoi elle s’intègre en production
Sur le terrain, le temps et la répétabilité sont les paramètres critiques. Cette étape de séchage resserre la boucle entre le nettoyage et la lithographie, et le profil thermique contrôlé réduit les effets de peau et la variabilité du reflux du resist.
Le résultat est une diminution des ponts après gravure, une densité de défauts plus faible et moins de rebut. La consommation d’énergie baisse également — car la lampe chauffe la cible, pas l’ensemble de la chambre. La fiabilité se traduit par moins d’arrêts, moins de changements de lampe et des niveaux de particules stables.
À surveiller
L’installation consiste à adapter la lampe au trajet optique et à l’ouverture de l’outil. Même un léger désalignement peut générer des points chauds sur la plaquette.
La lampe fonctionne de manière optimale lorsque l’humidité de la chambre est contrôlée ; si l’humidité ambiante augmente, le temps de séchage s’allonge. Enfin, un temps de chauffe est nécessaire pour atteindre l’équilibre thermique — intégrez-le dans la recette pour ne pas réduire la fenêtre process.

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