Lampada per forno a diffusione dei semiconduttori

Sat, 27 Jun 2026 05:27:31 +0800

Nel reparto di produzione, quella lampada utilizzata per la diffusione non è soltanto una fonte di calore: in realtà, stabilisce il “budget termico” necessario per il processo di lavorazione. Se la temperatura viene modificata anche di un solo grado, durante le fasi di cottura, il profilo del fotoresistente inizia a cambiare. Di conseguenza, anche la qualità del prodotto ne risente. Quello che serve è quindi un calore preciso, costante e rapido.

Quello che abbiamo costruito, dal punto di vista tecnico
Utilizziamo elementi alogeni a luce infrarossa vicina all’infrarosso, racchiusi in un involucro di quarzo. Lo spettro luminoso è ottimizzato per una riscaldamento uniforme della superficie del substrato, permettendo così un aumento rapido della temperatura con un minimo di dispersione termica. L’uniformità a livello di wafer rimane entro i ±0,1°C. La risposta della lampada è inferiore a un secondo, il che permette un controllo preciso della temperatura durante tutto il processo. Il design della lampada garantisce assenza di particelle durante il funzionamento; inoltre, può essere utilizzata in ambienti puliti di classe 1–100, senza problemi legati all’emissione di gas. La densità di potenza è adeguata alle esigenze del forno, e la prestazione della lampada rimane stabile per oltre 5.000 ore, con una diminuzione della potenza inferiore al 5%.

Diffusione on Quality IR Heating Lamps

Lampada per forno a diffusione dei semiconduttori