Riscaldatore a infrarossi compatibile _con il vuoto

Thu, 04 Jun 2026 04:01:59 +0800

On the litho floor, la cottura del fotoresist non è un riscaldamento di avviamento. È un blocco dimensionale.
Una variazione di 1°C nel soft bake o hard bake sposta la dimensione critica (CD) e l’angolo della parete laterale, e il volume di scarti cresce rapidamente. Nei processi in vuoto, i riscaldatori convenzionali possono emettere gas, rilasciare particelle o fornire calore non uniforme. Si finisce per scambiare resa con tempo di attività.

Cosa conta, tecnicamente
Abbiamo sviluppato un riscaldatore a infrarossi compatibile con il vuoto basato su sorgenti NIR a onde corte, integrate in un assemblaggio di quarzo e riflettore. Lo scopo è un trasferimento diretto e rapido di energia verso il wafer e il substrato.
Si ottiene un’uniformità della temperatura a livello del wafer entro ±0,1°C nell’area attiva, e una ripetibilità del setpoint migliore di ±0,5°C su 24 ore. In cleanroom, opera compatibile con Class 1–100, con emissione di particelle nulla verificata a livello dello strumento. Mantiene l’integrità del vuoto fino a 10⁻⁶ mbar, e il profilo termico resta stabile attraverso cicli ripetuti di cottura e raffreddamento—esattamente quanto richiede il budget termico del fotoresist.

Vuoto on Quality IR Heating Lamps

Riscaldatore a infrarossi compatibile _con il vuoto