<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>清掃 on Quality IR Heating Lamps</title>
		<link>http://lamp-ir.com/ja/tags/%E6%B8%85%E6%8E%83/</link>
		<description>Recent content in 清掃 on Quality IR Heating Lamps</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ja</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Wed, 03 Jun 2026 10:22:37 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://lamp-ir.com/ja/tags/%E6%B8%85%E6%8E%83/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>洗浄後のウェーハ乾燥ランプ</title>
				<link>http://lamp-ir.com/ja/posts/wafer-drying-lamp-after-cleaning/</link>
				<pubDate>Wed, 03 Jun 2026 10:22:37 +0800</pubDate>
				<guid>http://lamp-ir.com/ja/posts/wafer-drying-lamp-after-cleaning/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://lamp-ir.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png&#34; alt=&#34;洗浄後のウェーハ乾燥ランプ&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;ウェハを洗浄し、表面は無垢であるが、不安定な状態にある。残留する水分は一方通行の欠陥発生経路となり、リソグラフィーおよびエッチング工程を通じて欠陥として現れ、歩留まりに影響を与える。&#xA;ウェハ乾燥用ランプを使用し、迅速かつ制御されたエネルギーで水分を除去する。表面を損なうことなく水分を飛ばすため、ウェハはフォトレジストのスピンコート、ソフトベーク、ハードベークに対応でき、安定した熱挙動が得られる。&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
