제조 공장에서 그 확산로용 램프는 단순한 열원에 불과하지 않습니다. 오히려 그 램프가 전체적인 열 조건을 결정합니다. 소프트 베이크나 하드 베이크 과정에서 온도가 단 1도라도 잘못되면, 포토레지스트의 특성이 변하게 됩니다. 이로 인해 리소그래피 과정도 영향을 받고, 생산 효율도 저하됩니다. 따라서 반복 가능하고 안정적이며 빠른 열 공급이 필요합니다.
우리가 만든 기술적 특징 우리는 석영 케이스 내부에 근적외선(NIR) 할로겐 원소를 사용합니다. 스펙트럼은 표면 가열에 최적화되어 있어, 기판의 온도 상승이 빠르게 이루어지며 과열 현상도 최소화됩니다. 한 배치당 웨이퍼의 온도 균일성은 ±0.1°C 이내로 유지됩니다. 응답 시간은 1초 미만이므로, 온도 조절이 매우 정확하게 이루어집니다. 이 장비는 작동 중에 입자가 전혀 발생하지 않으며, 클린룸 클래스 1–100 환경에서도 문제없이 작동합니다. 전력 밀도는 로의 특성에 맞게 조절되며, 5,000시간 이상 사용해도 성능이 5% 이하로만 저하됩니다.
왜 이 제품이 여러분의 작업에 적합한가 확산 공정에서는 일관성이 모든 것입니다. 도핑, 필름 형성 등 모든 과정에서 일관성이 중요합니다. 포토레지스트 처리에서도 CD와 측벽 각도를 정확하게 유지하기 위해서는 정밀한 온도 제어가 필요합니다. 이 램프는 두 가지 요구사항을 모두 충족합니다. 높은 균일성 덕분에 열應力이 줄어들고 결함 위험이 낮아지며, 공정 시간도 단축됩니다. 깨끗한 작동 환경 덕분에 입자 수도 줄어들어, 리테이클과 웨이퍼의 품질이 향상됩니다. 빠른 응답 속도와 낮은 대기 전력 소모 덕분에 에너지 사용량도 줄어듭니다. 긴 수명 덕분에 점검 횟수도 줄어듭니다. 결국, 예측 가능한 제어, 쓰레기가 줄어드는 것, 그리고 일정한 생산량을 유지할 수 있다는 장점이 있습니다.
정확하게 설정해야 할 실용적인 세부 사항들 설치 시에는 정확한 광학 정렬과 열 패턴을 방해하지 않는 고정 장치가 필요합니다. 이 램프는 높은 전력 밀도로 작동하기 때문에, 적절한 냉각 시스템과 깨끗한 전력 공급이 필요합니다. 또한, 램프의 PID 파라미터를 로의 컨트롤러와 맞춰서 과열을 방지해야 합니다. 교체 후에는 완전히 안정화되기까지 짧은 시간이 걸립니다. 고장이 나기 전에 미리 교체하는 것이 중요합니다. 이렇게 하면 공정을 항상 일정한 수준으로 유지할 수 있습니다.