멤스 웨이퍼를 깨끗하게 건조시키는 방법 멤스 센서를 제작할 때 가장 원하지 않는 것은 먼지나 화학물질로 인해 웨이퍼가 손상되는 것입니다. 하지만 그러한 오염 물질들을 웨이퍼 표면에서 제거하는 것은 쉽지 않습니다. 오랫동안 사람들은 강제 공기 순환식 오븐을 사용해왔습니...

파쇄 공정에서는 포토레지스트의 안정성이 매우 중요합니다. 세척 후에도 약간의 수분만 남아 있어도 결함이 발생할 수 있습니다. 또한, 소프트 베이크와 하드 베이크 과정에서의 온도 조절도 매우 중요합니다. 일반적인 건조 방식을 사용하면 온도 프로파일이 변동되어 입자 수나...

팹 내에서의 세척 단계는 끝이 아닙니다. 이는 오염물질이 침투하기 전의 마지막 관문일 뿐입니다. 물자국, 천천히 마르는 현상, 그리고 과열된 부분들은 단순히 외형상 문제가 되는 것이 아니라, 생산 효율을 떨어뜨리고 예기치 않은 가동 중단을 초래합니다. 세척 후에는 입...

웨이퍼를 세척하면 표면은 깨끗하지만 동시에 불안정한 상태가 된다. 남아 있는 수분은 리소그래피와 식각 공정을 거쳐 결함으로 이어지며, 결국 수율 저하로 나타난다. 우리는 웨이퍼 건조 램프를 사용하여 빠르고 제어된 에너지로 수분을 제거한다. 표면 손상 없이 수분을 증발...

작업 현장에서 수율은 열 제어에 달려 있다. 소프트 베이크 온도가 단 몇 도만 어긋나도 중요한 치수 제어가 어려워진다. 입자를 제거하는 건조 단계는 결함으로 가는 일방통행 티켓과 같다. 우리는 그러한 현실을 받아들이고 맞서지 않는 산업용 웨이퍼 건조 히터를 설계했다....