Bersihkan wafer, dan permukaannya bersih—tetapi ia juga tidak stabil. Sebarang kelembapan yang tinggal adalah tiket satu hala kepada kecacatan yang terbawa sepanjang proses litografi dan etsa, kemudian muncul sebagai kesan pada hasil.
Kami menggunakan lampu pengering wafer untuk memanaskan kelembapan itu dengan tenaga yang pantas dan terkawal. Ia mengeluarkan air tanpa mengganggu permukaan, supaya wafer sedia untuk putaran photoresist, penaik lembut, dan penaik keras—dengan kelakuan terma yang boleh dipercayai.
Apa yang penting di sebalik tabir
Lampu menggunakan tenaga gelombang pendek untuk memanaskan secara setempat dan pantas, supaya chuck dan persekitaran tidak terbeban terma tambahan. Keseragaman di seluruh wafer dikekalkan pada ±0.1°C, yang melindungi belanjawan overlay dan dimensi kritikal anda.
Ia sesuai untuk bilik bersih dari Kelas 1 hingga Kelas 100 dan tidak melepaskan partikel sekali sudah mencapai keadaan stabil. Sistem mengekalkan suhu penaik photoresist dengan ketat, supaya profil penaik lembut dan penaik keras kekal boleh diulang. Dan output kekal stabil selama lebih 5,000 jam, dengan pergeseran intensiti di bawah 5%.
Mengapa ia digunakan di lantai pengeluaran
Di lantai pengeluaran, masa dan kebolehulangan adalah kos yang perlu dibayar. Langkah pengeringan ini memperketatkan kitaran dari pembersihan ke litografi, dan profil terma terkawal mengurangkan kesan kulit dan variasi reflow resist.
Anda akan mendapat lebih sedikit jambatan selepas etsa, ketumpatan kecacatan lebih rendah, dan kurang bahan buangan. Penggunaan tenaga juga berkurangan—kerana lampu memanaskan sasaran, bukan keseluruhan ruang. Kebolehpercayaan bermakna kurang gangguan, pertukaran lampu yang jarang, dan kiraan partikel yang kekal pada tahap yang ditetapkan.
Apa yang perlu diperhatikan
Pemasangan bergantung pada pemadanan lampu dengan laluan optik dan bukaan alat. Walaupun penyelarasan kecil boleh menyebabkan titik panas pada wafer.
Lampu berfungsi optimum apabila kelembapan dalam ruang dikawal; jika kelembapan sekitar meningkat, masa pengeringan bertambah lama. Dan terdapat tempoh pemanasan untuk mencapai keseimbangan terma—ambil kira ini dalam resipi supaya tetingkap proses tidak dipendekkan.