<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>MEMS on Quality IR Heating Lamps</title>
		<link>http://lamp-ir.com/ms/tags/mems/</link>
		<description>Recent content in MEMS on Quality IR Heating Lamps</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Mon, 20 Jul 2026 12:01:16 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://lamp-ir.com/ms/tags/mems/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Pemanas untuk mengeringkan wafer sensor MEMS</title>
				<link>http://lamp-ir.com/ms/posts/mems-sensor-wafer-drying-heater/</link>
				<pubDate>Mon, 20 Jul 2026 12:01:16 +0800</pubDate>
				<guid>http://lamp-ir.com/ms/posts/mems-sensor-wafer-drying-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://lamp-ir.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png&#34; alt=&#34;Pemanas untuk mengeringkan wafer sensor MEMS&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Cara mengeringkan wafer MEMS tanpa menyebabkan kerosakan&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Ketika membuat sensor MEMS, perkara terakhir yang diinginkan ialah adanya debu atau kotoran kimia yang boleh merosakkan wafer tersebut. Namun, untuk membuang kelembapan dan bahan pelarut dari permukaan wafer ini bukanlah perkara yang mudah.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Selama ini, orang menggunakan ketuhar udara bertekanan untuk tujuan ini. Masalahnya ialah ketuhar tersebut memerlukan banyak tenaga, dan proses pemanasan dilakukan dengan cara meniup udara ke sekeliling wafer. Dalam bilik bersih, tindakan ini sebenarnya akan membawa masuk lebih banyak zarah kotoran ke dalam wafer.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
