http://lamp-ir.com/ms/tags/pembersihan/ Recent content in Pembersihan on Quality IR Heating Lamps Hugo ms Wed, 03 Jun 2026 10:22:37 +0800 http://lamp-ir.com/ms/posts/wafer-drying-lamp-after-cleaning/ Wed, 03 Jun 2026 10:22:37 +0800 http://lamp-ir.com/ms/posts/wafer-drying-lamp-after-cleaning/ <p><img src="http://lamp-ir.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png" alt="Lampu pengering wafer selepas pembersihan"></p> <p>Bersihkan wafer, dan permukaannya bersih—tetapi ia juga tidak stabil. Sebarang kelembapan yang tinggal adalah tiket satu hala kepada <a href="https://o-yate.net">kecacatan</a> yang terbawa sepanjang proses litografi dan etsa, kemudian muncul sebagai kesan pada hasil.</p> <p>Kami menggunakan lampu pengering wafer untuk memanaskan kelembapan itu dengan tenaga yang pantas dan terkawal. Ia mengeluarkan air tanpa mengganggu permukaan, supaya wafer sedia untuk putaran photoresist, penaik lembut, dan penaik keras—dengan kelakuan terma yang boleh dipercayai.</p> <p><strong>Apa yang penting di sebalik tabir</strong><br> Lampu menggunakan tenaga gelombang pendek untuk memanaskan secara setempat dan pantas, supaya chuck dan persekitaran tidak terbeban terma tambahan. Keseragaman di seluruh wafer dikekalkan pada ±0.1°C, yang melindungi belanjawan overlay dan dimensi kritikal anda.</p>