http://lamp-ir.com/ms/tags/teknikal/ Recent content in Teknikal on Quality IR Heating Lamps Hugo ms Tue, 23 Jun 2026 01:09:02 +0800 http://lamp-ir.com/ms/posts/technical-support-for-wafer-heating/ Tue, 23 Jun 2026 01:09:02 +0800 http://lamp-ir.com/ms/posts/technical-support-for-wafer-heating/ <p><img src="http://lamp-ir.com/images/e619a459508a95cd74ea4eae0be40cd1.png" alt="Sokongan teknikal untuk pemanasan wafer"></p> <p>Di bilik pengeluaran yang canggih ini, anda tahu bagaimana prosesnya berlangsung. Perubahan suhu sebanyak setengah darjah sahaja pun boleh mengubah parameter pengeluaran. Jika suhu terlalu tinggi di bahagian tepi wafer, maka wafer tersebut akan rosak sebelum sempat digunakan. Sistem pemanasan wafer <a href="https://o-yate.net">perlu</a> berfungsi dengan baik dalam keadaan suhu yang tinggi – tiada ruang untuk kesilapan, hanya kawalan suhu yang tepat sahaja diperlukan, sementara udara di bilik bersih tetap stabil.</p> <p><strong>Apa yang <a href="https://goldisgood.com">penting</a> di sebalik semua ini</strong><br> Kami merancang sistem pemanasan wafer berdasarkan prinsip termodinamik semikonduktor, bukan sekadar kotak pemanas biasa. Sistem ini memastikan suhu pada wafer kekal stabil pada tahap ±0.1°C, agar kelikatan bahan fotoreaktif dan proses penyingkiran pelarut berjalan lancar. Keserasian dengan bilik bersih bukanlah sesuatu yang boleh ditambah kemudian; bahan dan permukaan yang digunakan dipilih agar penghasilan zarah-zarah berbahaya dapat dikurangkan, sehingga wafer tersebut sesuai digunakan dalam kelas bersih 1–100, tanpa perlu menggunakan sistem penapisan tambahan.</p>