<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Tub on Quality IR Heating Lamps</title>
		<link>http://lamp-ir.com/ms/tags/tub/</link>
		<description>Recent content in Tub on Quality IR Heating Lamps</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Tue, 30 Jun 2026 17:42:23 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://lamp-ir.com/ms/tags/tub/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Lampu pemanas inframerah berbentuk tiub kembar</title>
				<link>http://lamp-ir.com/ms/posts/twin-tube-infrared-heating-lamp/</link>
				<pubDate>Tue, 30 Jun 2026 17:42:23 +0800</pubDate>
				<guid>http://lamp-ir.com/ms/posts/twin-tube-infrared-heating-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://lamp-ir.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png&#34; alt=&#34;Lampu pemanas inframerah berbentuk tiub kembar&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di fasiliti pengeluaran, perubahan suhu semasa proses pengeringan wafer atau pembakaran bahan photoresist &lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;tidak&lt;/a&gt; menyebabkan kegagalan yang serius. Sebaliknya, ia menyebabkan penurunan kualiti hasil pengeluaran, penyebaran variasi ketebalan lapisan pada wafer, serta masalah yang memerlukan pembaikan berulang-ulang. Dengan had suhu yang ketat, tiada ruang untuk kawasan yang terlalu panas atau sejuk, mahupun perubahan &lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;nilai&lt;/a&gt; tetapan suhu antara sesi pengeluaran yang berbeza.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Apa yang penting di sebaliknya&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Kami menggunakan pemanas inframerah berbentuk tiub ganda yang menggunakan pemancar kuarsa gelombang pendek. Pemancar ini dapat menghantar tenaga dengan cepat dan efektif, dan tindak balasnya sangat pantas. Reka bentuk tiub ganda ini membolehkan penumpuan tenaga tanpa menggunakan ruang yang banyak, jadi ia boleh digunakan dalam modul pengeringan, pelapisan, dan proses penyembuhan bahan. Di kawasan aktif tersebut, suhu kekal stabil pada tahap ±0.1°C. Sistem kawalan juga diset agar profil suhu kekal konsisten dari satu sesi pengeluaran ke sesi yang lain. Keserasian dengan persekitaran makmal yang bersih juga merupakan ciri penting. Bahan-bahan yang digunakan membantu mengurangkan pembentukan zarah-zarah kecil, yang sangat diperlukan dalam persekitaran kelas 1–100.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
