<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Compatibel on Quality IR Heating Lamps</title>
		<link>http://lamp-ir.com/nl/tags/compatibel/</link>
		<description>Recent content in Compatibel on Quality IR Heating Lamps</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>nl</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 04 Jun 2026 04:01:59 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://lamp-ir.com/nl/tags/compatibel/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Vacuumgeschikte infraroodverwarmer</title>
				<link>http://lamp-ir.com/nl/posts/vacuum-compatible-infrared-heater/</link>
				<pubDate>Thu, 04 Jun 2026 04:01:59 +0800</pubDate>
				<guid>http://lamp-ir.com/nl/posts/vacuum-compatible-infrared-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://lamp-ir.com/images/c4487c91a5d0bd93963bf8b3a19ba704.png&#34; alt=&#34;Vacuumgeschikte infraroodverwarmer&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Op de litho-vloer is de fotoresist-bak geen opwarming. Het is een dimensionale vergrendeling.&lt;br&gt;&#xA;Een afwijking van 1°C bij soft bake of hard bake verandert de kritische dimensie (CD) en de zijwandhoek, en de &lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;afkeur&lt;/a&gt; neemt snel toe. Bij vacuümprocessen kunnen conventionele verwarmers uitgassen, deeltjes afgeven of ongelijkmatige warmte leveren. Hierdoor ruil je opbrengst in voor beschikbaarheid.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Wat technisch telt&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;We hebben een vacuümcompatibele infraroodverwarmer ontwikkeld rond kortgolvige NIR-bronnen in een kwarts- en reflectoropstelling. Het doel is directe, snelle energieoverdracht naar de wafer en het substraat.&lt;br&gt;&#xA;Je krijgt wafer-niveau temperatuuruniformiteit binnen ±0,1°C over de actieve zone, en een herhaalbaarheid van de setpoint beter dan ±0,5°C over 24 uur. In de cleanroom werkt het systeem Class 1–100 compatibel, met nul deeltjesgeneratie bevestigd op toolniveau. Het behoudt vacuümintegriteit tot 10⁻⁶ mbar, en het thermisch profiel blijft stabiel gedurende herhaalde bake-cool cycli—precies wat het thermisch budget van fotoresist vereist.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
