http://lamp-ir.com/nl/tags/drogen/ Recent content in Drogen on Quality IR Heating Lamps Hugo nl Mon, 20 Jul 2026 12:01:16 +0800 http://lamp-ir.com/nl/posts/mems-sensor-wafer-drying-heater/ Mon, 20 Jul 2026 12:01:16 +0800 http://lamp-ir.com/nl/posts/mems-sensor-wafer-drying-heater/ <p><img src="http://lamp-ir.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png" alt="HEATER VOOR DROGEN VAN MEMS SENSORMOLEN"></p> <p><strong>Het drogen van MEMS-wafers zonder rommel</strong><br> Tijdens het maken van MEMS-sensoren wil je natuurlijk voorkomen dat er stofdeeltjes of chemische resten op de wafer terechtkomen. Het verwijderen van vocht en oplosmiddelen van deze oppervlakken is echter een moeilijke taak.</p> <p>Lang gebruikten mensen gewone luchtoveningen. Het probleem? Ze verbruiken veel energie en ze zorgen er alleen maar voor dat er lucht rondgeblazen wordt. In een schone ruimte betekent dit eigenlijk dat er nog meer stofdeeltjes in de buurt komen te zijn.</p> http://lamp-ir.com/nl/posts/fast-drying-wafer-after-rinse-lamp/ Wed, 17 Jun 2026 16:36:52 +0800 http://lamp-ir.com/nl/posts/fast-drying-wafer-after-rinse-lamp/ <p><img src="http://lamp-ir.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png" alt="Snel drogende wafer na spoellamp"></p> <p>Op de productielijn is het spoelen nog niet het einde van het proces. Het is eerder de laatste controlepunt voordat er besmetting kan optreden. Watervlekken, trage droogtijd en hete plekken zijn niet alleen esthetisch storend – ze kunnen ook leiden tot een verminderde opbrengst en ongeplande stilstand van de machine. Na het spoelen moet de wafer snel, schoon en reproduceerbaar drogen, zonder dat er nieuwe deeltjes ontstaan of dat de fotoresistbescherming wordt aangetast.</p> <p><strong>Wat technisch gezien belangrijk is</strong> We hebben deze lamp ontworpen rondom één belangrijk principe: energie snel leveren en deze onder controle houden. De kortegolflange infrarode elementen zorgen voor een hoge energiedichtheid, waardoor het vocht snel kan verdampen. De reflector en de luchtstroom zorgen er bovendien voor dat de temperatuur goed onder controle blijft. Hierdoor is er een uniformiteit van ±0,1°C op het niveau van de wafer; iedere chip krijgt dus dezelfde thermische omstandigheden.</p>