<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Літографія on Quality IR Heating Lamps</title>
		<link>http://lamp-ir.com/uk/tags/%D0%BB%D1%96%D1%82%D0%BE%D0%B3%D1%80%D0%B0%D1%84%D1%96%D1%8F/</link>
		<description>Recent content in Літографія on Quality IR Heating Lamps</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>uk</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Tue, 09 Jun 2026 04:03:44 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://lamp-ir.com/uk/tags/%D0%BB%D1%96%D1%82%D0%BE%D0%B3%D1%80%D0%B0%D1%84%D1%96%D1%8F/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Нагрівальний елемент попереднього випікання для літографії</title>
				<link>http://lamp-ir.com/uk/posts/lithography-soft-bake-heating-element/</link>
				<pubDate>Tue, 09 Jun 2026 04:03:44 +0800</pubDate>
				<guid>http://lamp-ir.com/uk/posts/lithography-soft-bake-heating-element/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://lamp-ir.com/images/1764273a9805a56244015746cb190d47.png&#34; alt=&#34;Нагрівальний елемент попереднього випікання для літографії&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;На виробничій ділянці стабільність температури софт-бейку — це не просто побажання, а чітка межа між утриманням критичного розміру та перетворенням пластин у браку. Зміщення температури на 1,5°C виключає допустимий профіль фоторезисту, а будь-яке утворення часток під час випікання забруднює наступний шар. Ми спроектували нагрівальний елемент для софт-бейку у літографії так, щоб усунути ці відмови з самого початку.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Серцем системи є галогенна лампа короткохвильового інфрачервоного діапазону (SWIR) у кварцовому ковпаку, що забезпечує швидке пряме теплове зв’язування безпосередньо із резистом. По всій зоні випікання однорідність на рівні пластини тримається в межах ±0,1°C, а температурний підйом стабілізується досить швидко, щоб не знімати час із циклу треку.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
