파쇄 공정에서는 포토레지스트의 안정성이 매우 중요합니다. 세척 후에도 약간의 수분만 남아 있어도 결함이 발생할 수 있습니다. 또한, 소프트 베이크와 하드 베이크 과정에서의 온도 조절도 매우 중요합니다. 일반적인 건조 방식을 사용하면 온도 프로파일이 변동되어 입자 수나 선의 굵기를 정확하게 제어하기 어렵습니다.
여기서 중요한 것은 기술적인 측면입니다. 저희의 태양전지 웨이퍼 건조 램프는 짧은 파장의 적외선을 이용하여 1초 이내에 반응하며, 웨이퍼 전체에 걸쳐 ±0.1°C의 정밀한 온도 조절이 가능합니다. 이러한 정밀도 덕분에 소프트 베이크부터 하드 베이크까지의 공정이 반복 가능하며, 과도한 온도 상승도 없습니다. 이 램프는 클린룸 등급 1–100 환경에서도 사용할 수 있으며, 5,000시간 이상 작동해도 강도 변화가 5% 미만입니다. 또한, 입자 발생도 전혀 없습니다. 통합된 석영 차폐 장치와 밀폐된 열 경로 덕분에 오염을 방지하고 온도 프로파일을 유지할 수 있습니다.
리소그래피와 에칭 공정에서 이 점이 왜 중요한지 살펴보면, 온도 조절이 제대로 되지 않으면 웨이퍼 건조가 병목 현상이 됩니다. 이 램프를 사용하면 온도 조절 범위 내에서 건조 시간을 단축할 수 있으므로, 중요한 치수 제어를 해치지 않으면서도 생산 속도를 높일 수 있습니다. 반복 가능한 온도 프로파일 덕분에 재작업 횟수가 줄어들고, 폐기물도 감소합니다. 또한, 램프가 목표 영역만 가열하고 건조가 끝나면 즉시 전원이 차단되므로 에너지 사용량도 줄어듭니다.
실제 사용 시 고려해야 할 몇 가지 사항들이 있습니다. 램프는 24V DC 전력 공급이 필요하며, 스핀 드라이 스테이션 바로 옆에 진동이 없는 곳에 설치해야 합니다. 이 램프는 표준적인 150mm 및 200mm 웨이퍼와 호환됩니다. 300mm 웨이퍼의 경우에는 약간의 조정만 필요합니다. 정확한 공정 조건을 파악하기 위해 짧은 기간 동안 테스트를 진행하는 것이 좋습니다.