Berhenti membazir masa dengan kaedah yang tidak efektif: Mengapa penggunaan lampu inframerah UHP lebih efektif.
Mari kita bincangkan cara kita memanaskan wafer. Untuk waktu yang lama, kaedah yang digunakan ialah penggunaan udara panas. Namun, jika anda pernah bekerja di fasiliti pembuatan semikonduktor, anda pasti tahu betapa menyakitkannya kaedah ini. Kaedah konveksi paksa sebenarnya hanyalah cara untuk memanaskan udara, dengan harapan udara tersebut dapat mengalirkan haba ke wafer. Proses ini sangat lambat, dan terdapat kelewatan dalam proses pemanasan.
Lampu inframerah UHP mengubah segalanya. Daripada bergantung pada udara sebagai medium penghantaran haba, lampu ini menggunakan tenaga radiasi untuk memanaskan objek secara langsung. Ini merupakan cara yang lebih efektif. Perbezaan kelajuan antara kedua-dua kaedah ini sangat besar.
Sistem udara panas mempunyai “inersia termal” yang tinggi – ia memerlukan masa yang lama untuk mencapai suhu yang diinginkan, dan masa yang lebih lama lagi untuk menyejukkannya. Ini akan menambah masa yang diperlukan untuk setiap proses pembuatan. Dengan lampu UHP pula, prosesnya berlaku dalam masa beberapa saat sahaja. Kami telah merancang lampu ini agar ia dapat menghasilkan tenaga yang banyak dalam ruang yang kecil, supaya suhu yang diinginkan dapat dicapai dalam masa beberapa saat, bukan minit.
Dengan mengurangkan masa proses ini, kapasiti pengeluaran setiap jam akan meningkat. Yang terbaiknya, anda tidak perlu mencari ruang tambahan di bilik bersih untuk melaksanakan proses ini.
Selain itu, kaedah penggunaan udara panas juga menyebabkan kekacauan. Udara yang digunakan untuk memanaskan wafer sebenarnya hanya membawa partikel-partikel kecil. Walaupun menggunakan penapis HEPA yang terbaik, masih ada risiko partikel-partikel tersebut sampai ke permukaan wafer. Kami menggunakan kuarsa sintetik berkualiti tinggi untuk lampu ini, agar tiada gas berbahaya yang dilepaskan. Tanpa aliran udara berkelajuan tinggi, partikel-partikel tersebut tidak akan sampai ke tempat yang sepatutnya. Ini menjadikan prosesnya lebih bersih.
Sejujurnya, haba radiatif bukanlah “sihir”. Ia mempunyai arah tertentu. Udara akan mengelilingi objek, tetapi inframerah pula bertindak seperti senter. Jika penempatan lampu tidak tepat, akan timbul perbezaan suhu – iaitu kawasan yang sejuk. Anda perlu memastikan penempatan reflektor tepat agar haba dapat tersebar secara merata di seluruh permukaan wafer.
Namun, jika anda mempunyai sistem kawalan yang mampu mengurus perubahan kuasa dengan cepat, hasilnya akan sangat baik. Anda akan mendapat kadar pemanasan yang lebih cepat, persekitaran yang lebih bersih, dan proses kerja yang berjalan pada kelajuan yang diinginkan.