Dalam proses litografi, kestabilan bahan fotoresist merupakan faktor yang sangat penting. Sebarang kelembapan yang tertinggal setelah proses pembersihan boleh menyebabkan masalah pada permukaan wafer. Selain itu, had suhu yang dibenarkan semasa proses pengeringan juga perlu dipatuhi dengan ketat. Dengan kaedah pengeringan konvensional, profil suhu akan berubah-ubah, sehingga memerlukan usaha tambahan untuk mengawal jumlah zarah dan ketebalan garisan pada wafer.
Lampu pengeringan wafer solar cell kami mampu mengekalkan ketepatan suhu sebanyak ±0.1°C di seluruh permukaan wafer, menggunakan pengeluar sinar inframerah gelombang pendek yang bertindak balas dalam masa kurang dari satu saat. Ketepatan ini memastikan proses pemprosesan fotoresist dapat dilakukan secara konsisten, tanpa adanya penyimpangan suhu. Lampu ini direka khusus untuk digunakan dalam bilik bersih tahap 1–100. Ia boleh beroperasi selama lebih dari 5,000 jam dengan perubahan intensiti cahaya kurang dari 5%, serta tidak menghasilkan sebarang zarah kontaminan. Lapisan pelindung kuarsa yang terintegrasi serta saluran haba yang tertutup membantu mencegah kontaminasi dan memastikan profil suhu tetap stabil.
Mengapa ini penting dalam proses litografi dan etching? Jika kawalan suhu tidak efektif, proses pengeringan wafer akan menjadi faktor yang membataskan kelajuan proses tersebut. Dengan lampu ini, masa pengeringan dapat dikurangkan sambil tetap mematuhi had suhu yang ditetapkan. Ini seterusnya meningkatkan kecekapan proses, tanpa mengorbankan kawalan dimensi wafer yang tepat. Profil suhu yang konsisten juga bermakna kurangnya keperluan untuk melakukan kerja ulang, penggunaan bahan yang lebih sedikit, serta masa pengeluaran yang lebih dapat diramalkan. Penggunaan tenaga juga berkurangan, kerana lampu hanya memanaskan kawasan yang diperlukan sahaja, dan akan berhenti berfungsi tepat pada waktunya.
Beberapa butiran praktikal: Lampu ini memerlukan sumber kuasa 24 VDC yang khusus, serta sokongan yang stabil dan bebas getaran di sebelah stesen pengeringan wafer, agar penyesuaian posisi lampu dapat dilakukan dengan tepat. Lampu ini sesuai digunakan dengan wafer berukuran 150 mm dan 200 mm; untuk wafer berukuran 300 mm, hanya perlu sedikit pengubahsuaian pada alat sokongnya. Lakukan ujian kualiti suhu terlebih dahulu untuk menentukan julat suhu yang sesuai, agar proses pengeluaran dapat berjalan dengan lancar.