ファブ内では、フォトレジストの焼成時に0.1°Cの温度変動があっただけで、300mmウエハーの一括生産が台無しになってしまいます。そのような温度変動を防ぐために、インターポーザー用の加熱用赤外線ランプが使用されています。
このランプの技術的な特徴は、高速応答性を持つ石英素子を利用した短波長赤外線放射体を使用している点です。これにより、迅速かつ局所的な加熱が可能になります。インターポーザー表面全体での温度均一性は±0.1°C以内で維持され、温度の再現性も高いです。ピーク波長はフォトレジストの吸収特性に合わせて調整されているため、エネルギーは重要な部分、つまりフォトレジスト層にだけ集中し、下層の誘電体を損傷させることはありません。また、24時間連続して動作し、粒子を全く発生させず、クラス1からクラス100までの清浄度を実現します。
リソグラフィーにおいては、ソフトベイクによって溶剤が除去され、フォトレジストの形状が決定されます。ハードベイクでは、エッチング前にパターンを固定します。どちらの工程でも、安定した均一な温度が必要です。このランプにより、インターポーザーの温度が安定し、線幅のばらつきが抑えられ、現像後に余分な物質が発生することもありません。
結果として、歩留まりが向上し、再作業が減少し、CD精度も安定します。また、ランプが対象となる領域のみを加熱するため、エネルギーの消費も削減されます。
実用上の注意点としては、設置時には正確な光学調整と、粒子数を適切に保つためのクリーンルーム環境が必要です。出力強度は特定のインターポーザースタックに合わせて調整されているため、スタックが変更された場合は、設定値をすぐに調整する必要があります。
最初からリソグラフィーシステムや温度制御装置との連携を考慮して計画することが大切です。一度これらが適切に連携すれば、プロセスの安定性が確保されます。