Inleiding
Heb je ooit het gevoel dat je vastzit terwijl je wacht tot de tijd voorbij is? Wanneer je productieproces zich bevindt in een fase waarin veel energie nodig is om processtappen uit te voeren, werkt de hete lucht juist tegen. Daarom hebben we iets ontwikkeld om deze beperking te overwinnen: de Energy Efficient Wafer Heater.
Het gaat hier om snelheid. We maken gebruik van kortegolf-infrarode halogentechnologie, zodat de hitte precies op de gewenste plek terechtkomt – op het oppervlak van de wafer – zonder dat de hele kamer in een oven verandert.
Wat maakt hem zo effectief?
Dit is het essentiële van deze heater: hij is compact, nauwkeurig en gemakkelijk te bedienen. Hij werkt op 400V, waardoor er veel vermogen beschikbaar is in een kleine ruimte. Dit betekent dat de temperatuur snel kan worden geregeld, precies op de plek waar het nodig is.
De verwarmingslengte van 300 mm is ideaal: deze past bij standaardapparatuur, zodat je hem gemakkelijk kunt gebruiken zonder dat je het proces hoeft te veranderen. De hoeveelheid warmte die wordt geproduceerd, is precies genoeg om consistente resultaten te behalen. Je krijgt dus dezelfde prestaties als met RTP-technologie, maar zonder de complicaties van complexe leidingwerkjes.
De constructie
We hebben de kern van de heater omhuld met kwarts, dat gevuld is met hoogzuiver halogeen. Deze combinatie zorgt ervoor dat de hitte behouden blijft. De kortegolf-infrarode straling wordt optimaal gebruikt, zodat silicium en dunne films de hitte gemakkelijk kunnen opnemen. Binnenin zorgt het halogeen voor een stabiele werking, zelfs na talloze opwarm- en afkoelcyclus.
Het vervangen van de lamp is eenvoudig dankzij de R7s-bi-pinconnector. Hij past gemakkelijk in de heater, zodat er minder stilstand is. De buitenlaag is bovendien bestand tegen thermische schokken en besmettingen, waardoor de emissiviteit constant blijft en het onderhoud gemakkelijk kan worden uitgevoerd.
Wat betekent dit voor jou?
Bij complexe productieprocessen is tijd belangrijk. En infraroodstraling helpt hierbij. Omdat de heater de wafer rechtstreeks opwarmt, hoef je niet te wachten tot de hele kamer op temperatuur is. De temperatuurveranderingen zijn snel en de uniformiteit blijft hoog. Bovendien wordt er minder energie verbruikt per batch.
Dit is dus een upgrade die je kunt toepassen wanneer je meer productiecapaciteit wilt zonder meer ruimte te gebruiken.
Let wel: door de hoge hitteintensiteit moet je zorgen dat je koelingssysteem opgewassen is tegen deze belasting. Als het systeem niet sterk genoeg is, kunnen er hete punten ontstaan. Pas de lamp dus aan op je thermische capaciteit, zodat je soepeler kunt werken en minder defecten krijgt.