清洗后晶圆烘干灯

清洗晶圆后，表面虽然无瑕，但同时也变得不稳定。任何残留的水分都会导致缺陷，这些缺陷会贯穿光刻和蚀刻过程，最终反映为良率损失。 我们使用晶圆干燥灯，利用快速且可控的能量处理水分。它能驱散水分而不影响表面，使晶圆为光刻胶旋涂、软烘和硬烘做好准备，且具备可预期的热行为。 核心要点 该灯采用短波能量，实现...