メモリースイッチ用ウェーハを汚れなく乾燥させる方法 メモリースイッチセンサーを製造する際、最も避けたいのは、ほこりや化学物質がウェーハを損傷させることです。しかし、その表面から水分や溶剤を取り除くのは簡単ではありません。 長年にわたり、人々は送風式のオーブンを使ってきました。しかし、問題点は、エネ...

フォトレジストの安定性は、リソグラフィーにおいて不可欠な要素です。洗浄後にわずかな水分が残っているだけでも、欠陥が生じてしまいます。また、ソフトベイクやハードベイクの際の温度管理も非常に重要です。従来の乾燥方法では、温度プロファイルが変動してしまい、粒子数や線幅の制御が困難になります。 ここが技術...

ファブの現場では、リンス工程は最終段階ではありません。それは、汚染が侵入する前の最後のチェックポイントに過ぎません。水滴や乾燥が遅いこと、または局所的な過熱は、見た目が悪くなるだけでなく、生産効率を低下させ、計画外の停止を引き起こします。リンス後には、粒子が混入したり、フォトレジスト層に負担がかか...

ウェハを洗浄し、表面は無垢であるが、不安定な状態にある。残留する水分は一方通行の欠陥発生経路となり、リソグラフィーおよびエッチング工程を通じて欠陥として現れ、歩留まりに影響を与える。 ウェハ乾燥用ランプを使用し、迅速かつ制御されたエネルギーで水分を除去する。表面を損なうことなく水分を飛ばすため、ウ...

フロアレベルでは、歩留まりは熱管理に帰着する。ソフトベークの温度が数度でもずれると、重要な寸法管理が損なわれ始める。粒子を排出する乾燥工程は欠陥への片道切符である。私たちの産業用ウェハードライヤーヒーターは、その現実と共存する設計であり、対抗するものではない。 What matters under...