太陽電池ウェーハ乾燥ランプ

フォトレジストの安定性は、リソグラフィーにおいて不可欠な要素です。洗浄後にわずかな水分が残っているだけでも、欠陥が生じてしまいます。また、ソフトベイクやハードベイクの際の温度管理も非常に重要です。従来の乾燥方法では、温度プロファイルが変動してしまい、粒子数や線幅の制御が困難になります。 ここが技術...