标签为“溅射”的页面如下 半导体溅射加热器 在线生产中,温度不是建议——而是规格要求。光刻胶软烘过程中温度偏移1°C,或固化过程中晶圆上的2°C热点,都会悄无声息地侵蚀你的叠层余量和刻蚀选择性。在溅射及其相关的热处理步骤中,加热器不仅仅是提供热量,更是设定了工艺必须持续遵守的热预算。 我们选择基于红外技术设计半导体溅射加热器,因为晶圆加热本... Read more...
半导体溅射加热器 在线生产中,温度不是建议——而是规格要求。光刻胶软烘过程中温度偏移1°C,或固化过程中晶圆上的2°C热点,都会悄无声息地侵蚀你的叠层余量和刻蚀选择性。在溅射及其相关的热处理步骤中,加热器不仅仅是提供热量,更是设定了工艺必须持续遵守的热预算。 我们选择基于红外技术设计半导体溅射加热器,因为晶圆加热本... Read more...